半导体烤箱，wafer烤箱用途:
  半导体烤箱，wafer烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料预处理烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

特点：
1.烤箱具有升温快，温度过冲小，节能等优点；
2.全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
3.采用环抱式热风循环系统，风源由循环马达运转带动风轮经电热器，将热风由风道送至烤箱内部，且将使用后空气吸入风道成为风源再度循环加热，省电节能温度均匀性好；
4.强制送风循环方式。双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，得到精密温度控制精度。

产品技术参数：  

 温度范围：RT+10～250℃；
 温度均匀度：±2℃;    

 温度波动度：±0.5℃        
 温控精度：±0.1℃;        

 工作室尺寸：W600×D550×H600（mm）         
 电源：220v , 50Hz，3.0KW    

 网板：2块（高度可调节)