光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱应用多晶硅，石英，太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱研发背景
集成电路光刻工艺中常使用HMDS对晶圆衬底进行黏附处理，来提高光刻胶与衬底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷（Si(CH3)3）2NH，行业所要求纯度大于99.7%。
HMDS黏附机 HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱作用
衬底在空气中易形成厚度为几个原子层的二氧化硅薄膜，由于其具有亲水性，会吸附空气中的水分到衬底表面。光刻胶涂层多为有机疏水材料，这就造成了光刻胶与衬底黏附性差。在实际生产中，常将HMDS雾化，并在特定的温度和压力条件下处理，来改变晶圆表面的亲水性。其原理可以简述为HMDS中的有机基团取代晶圆表面水分子羟基，使晶圆表面由亲水性变为疏水性。
光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱实用性
在光刻中，光刻胶的黏附效果受到光刻涂层，衬底材料，以及光刻工艺三方面的影响。HMDS的黏附处理不只是对硅基衬底有效。也用于其他衬底，诸如多晶硅，石英，太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
HMDS烘箱兼容2~12寸晶圆及碎片、方片等。
设备名称：HMDS烘箱
设备型号： JS-HMDS90
内腔尺寸：450×450×450、350×350×350（mm）可定制
材质：外箱采用优质冷轧板喷塑、304不锈钢，内箱采用316L医用级不锈钢
工艺温度：110-160℃
真空度：≤1torr
工艺运行：自动运行
